中微公司(688012)

2018年,在美国领先的半导体产业咨询公司VLSIResearch对全球半导体设备公司的“客户满意度”调查和评比中......更多>>

688012股价预警
江恩支撑:203.44
江恩阻力:211.58
时间窗口:2020-02-26
详情>>
畅聊大厅
walo:

688012中微公司芯片概念,个股也明显。资金做多,短期会持续上涨

2020-02-13 12:09:09
哈简易:

炒股就金麒麟分析师研报,权威,专业,及时,全面,助您挖掘潜力主题机会!重组与增发【新筑股份增发事项获批】新筑股份今日收到中国证监会的批复,核准公司非公开发行不超过12,900万股新股,发生转增股本

2020-02-12 22:43:15
祥子01234:

科创板中微公司:拟与上海自由贸易试验区临港管委会签

2020-02-12 18:35:16
A-灯来灯往:

下午资金有回流节前的趋势科技股,捷捷微电上板,中微公司、三安光电、上海新阳、长电科技等拉升~!

2020-02-07 14:32:01
面包陪你:

科创板板块集体反抽,威胜信息大涨39%,优刻得涨1

2020-02-04 09:53:16
壮志在我心:

科创板迎来首批限售股解禁 影响有限但“A股病”有待正视

1月22日是科创板开市半年的日子,这一天,科创板将迎来首批限售股的解禁。限售股解禁与套现本就是市场非常敏感的一个话题,恰逢今年1月又是限售股解禁的一个高峰,此时科创板迎来首批限售股解禁一事自然格外令

2020-01-23 09:38:20
牛市鸡犬升天:

妖股龙头评

妖股龙头评妖股龙头新化网红新龙头,强势上板,短线不追等震荡分歧机会。联环药业流感病毒龙头,继续一字板,后排开始坑人,观望不入。模塑科技特斯拉龙头,算是星期六的补涨股,已经超预期了,持筹者的盛

2020-01-22 17:21:40
随遇而安:

科创板首批解禁潮出现136家机构浮盈24亿元 还有更多机会亟待挖掘

解禁这件事儿,本来就是有人欢喜有人忧。投资者们在乎的不外乎两,解禁规模和解禁收益。近期,中微公司等首批登陆科创板的25家公司先后发布了《首次公开发行网下配售限售股上市流通公告》,宣布首次公开发行网下

2020-01-22 16:41:47
红豆豆:

清光了中微公司的股票,祝福继续坚守的投资者,相我们后会有期。

2020-01-22 15:21:43
跑赢国家队:

688012中微公司突破200了,未来有一天会挑战股王茅台吗?

2020-01-22 15:01:38
申购日期 股票简称 申购代码发行价
2020-02-19 建业股份 732948 14.39
2020-02-17 紫晶存储 787086 21.49
2020-02-13 中银证券 780696 5.47
代码 名称 每股收益(元)每股净资产(元)
000921 海信家电 0.7 5.8004
300236 上海新阳 1.44 7.8563
002493 荣盛石化 0.1663 3.3949
600873 梅花生物 0.32 2.9311
600895 张江高科 0.18 5.7905
  • 主力控盘
  • 机构评级
  • 趋势研判
  • 时价关系

 
  主力控盘:根据赢家江恩星级评定模型,给予中微公司(688012)星评定。主力机构对该股认同度一般,未来上涨的潜力有待观察。从机构持仓判断,近三个月来该股较上期相比,新进机构 10 家,增仓 0 家,减仓 0 家,退出 0 家,本此变动后机构所持仓位比例较上期占流通盘比 6.32%。

当日资金流向判断 今日资金净流入为974.28万。 使用《赢家江恩软件》官方看图分析该股>>

 
  依据赢家江恩系统趋势工具极反通道分析判断中微公司688012运行在生命线以上强势区域,根据规则该股可短线、波段结合操作;结合物极必反的原理通过分钟图做盘中差价,应用口诀是:生命线上强势走,生命线下难抬头;红黄两条外轨线,压力支撑显势头。

 
  依据赢家江恩系统时价工具判断,该股短期时间窗为 2020-02-26号和2020-03-18号,中期时间窗2020-04-08号和2020-05-12号,短期支撑是203.44元,阻力是211.58元。

  空间阻力与支撑判断依据:站稳一线看高一线,失守一线看低一线;时间窗口判断依据:时间窗对趋势有助推作用。

综述

688012股票分析综合评论:中微公司688012当前趋势运行在生命线以上强势可操作区域,中期资金筹码占流通盘6.32%,主力控盘度较低未来上涨的潜力有待观察。通过江恩价格工具分析,该股短期支撑是203.44元,阻力是211.58元;通过江恩时间工具分析,该股短期时间窗为 2020-02-26号和2020-03-18号,中期时间窗2020-04-08号和2020-05-12号 ,结合持仓成本做好计划。

所属板块

上游行业:机械设备

当前行业:专用设备

下级行业:其它专用机械

所属区域

  • 资金流向
  • 机构持仓
机构名称 持股量 占流通股%增减情况
光大证券股份有限公司 100 2.06 新进
深圳德威资本投资管理有限公司-德威资本优盛私募基金 44.25 0.91 新进
中国银行股份有限公司-宝盈核心优势灵活配置混合型证券投资基金 26 0.54 新进
民生通惠资产-工商银行-民生通惠通汇4号资产管理产品 24.55 0.51 新进
中国工商银行股份有限公司-诺安新经济股票型证券投资基金 18.9 0.39 新进
主营业务:

聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。

产品类型:

刻蚀设备、MOCVD设备、其他设备

产品名称:

电容性等离子体刻蚀设备 、 电感性等离子体刻蚀设备 、 MOCVD设备 、 VOC设备

经营范围:

中微半导体设备(上海)股份有限公司的主营业务是聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。公司的主要产品有电容性等离子体刻蚀设备,电感性等离子体刻蚀设备,MOCVD设备,VOC设备。

  • 分配预案
  • 分红配送
披露日期 会计年度 分配预案 实施状况
查看更多
股票简称 公告日 分红(每10股) 送股(每10股) 转增股(每10股) 登记日除权日 备注
查看更多

半导体设备行业的技术水平及特点与半导体制造工艺的需求密切相关。行业内有“一代设备,一代工艺,一代产品”的说法。(1)刻蚀设备行业在新技术方面近年来的发展情况与未来发展趋势①集成电路制造工艺集成电路制造工艺繁多复杂,其中光刻、刻蚀和薄膜沉积是半导体制造三大核心工艺。薄膜沉积工艺系在晶圆上沉积一层待处理的薄膜,匀胶工艺系把光刻胶涂抹在薄膜上,光刻和显影工艺系把光罩上的图形转移到光刻胶,刻蚀工艺系把光刻胶上图形转移到薄膜,去除光刻胶后,即完成图形从光罩到晶圆的转移。制造芯片的过程需要数十层光罩,集成电路制造主要是通过薄膜沉积、光刻和刻蚀三大工艺循环,把所有光罩的图形逐层转移到晶圆上。②等离子体刻蚀技术刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀,湿法刻蚀各向异性较差,侧壁容易产生横向刻蚀造成刻蚀偏差,通常用于工艺尺寸较大的应用,或用于干法刻蚀后清洗残留物等。干法刻蚀是目前主流的刻蚀技术,其中以等离子体干法刻蚀为主导。等离子体刻蚀设备是一种大型真空的全自动的加工设备,一般由多个真空等离子体反应腔和主机传递系统构成。等离子体刻蚀设备的分类与刻蚀工艺密切相关,其原理是利用等离子体放电产生的带化学活性的粒子,在离子的轰击下,与表面的材料发生化学反应,产生可挥发的气体,从而在表面的材料上加工出微观结构。根据产生等离子体方法的不同,干法刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀和电感性等离子体刻蚀;根据被刻蚀材料类型的不同,干法刻蚀主要是刻蚀介质材料(氧化硅、氮化硅、二氧化铪、光刻胶等)、硅材料(单晶硅、多晶硅、和硅化物等)和金属材料(铝、钨等)。电容性等离子体刻蚀主要是以高能离子在较硬的介质材料上,刻蚀高深宽比的深孔、深沟等微观结构;而电感性等离子体刻蚀主要是以较低的离子能量和极均匀的离子浓度刻蚀较软的和较薄的材料。这两种刻蚀设备涵盖了主要的刻蚀应用。

(1)创始人及技术团队优势中微公司的创始团队及技术人员许多都有国际领先半导体设备公司的从业经验,在一定程度上理解竞争对手的企业文化和经营理念,是国内具有国际化优势的半导体设备研发和运营团队之一。中微公司的创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有35 年行业经验,是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者。在创办中微公司以前,尹志尧博士于 1984 年至 1986 年间供职于英特尔,从事核心技术开发工作;于 1986 年至 1991 年间在泛林半导体负责领导若干重点产品的刻蚀技术开发;于1991年至2004年间在应用材料担任高级管理职务,包括企业副总裁、刻蚀产品事业部总经理、亚洲总部首席技术官。尹志尧博士是 89 项美国专利和200 多项其他海内外专利的主要发明人。2018 年美国 VLSI Research 的全球评比中,中微公司董事长尹志尧博士与英特尔董事长、格罗方德 CEO 一起被评为 2018年国际半导体产业十大领军明星(All Stars)。中微公司的其他联合创始人、核心技术人员和重要的技术、工程人员,包括杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士、杨伟先生、李天笑先生等 160 多位各专业领域的专家,其中很多是在国际半导体设备产业耕耘数十年,为行业发展做出杰出贡献的资深技术和管理专家。他们在参与创立或后续加入中微公司后,不断创造新的技术、工艺和设计,做出了不可替代的贡献。中微公司以合作共赢的团队精神和全员持股的激励制度,吸引了来自世界各地具有丰富经验的半导体设备专家,形成了成熟的研发和工程技术团队。公司按照电容性等离子体刻蚀设备、电感性等离子体刻蚀设备、深硅/MEMS 刻蚀设备、MOCVD 设备等不同研发对象和项目产品,组成了分工明确的专业研发团队。截至 2018 年末,公司共有研发和工程技术人员 381 名,占员工总数的 58%,涵盖了等离子体物理、射频及微波学、结构化学、微观分子动力学、光谱及能谱学、真空机械传输等相关学科的专业人员。凭借研发团队多年的努力以及持续不断的研发投入,公司成功研发了具有独创性、先进性和前瞻性的半导体刻蚀设备及薄膜沉积设备,并实现了大规模产业化,积累了丰富的研发和产业化密切结合的经验和雄厚的技术、专利储备。公司成功打造了一支具有创造力和契而不舍精神的创始人及技术团队,这保证了公司产品和服务不断创新改进。(2)研发优势半导体制造对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求,导致半导体设备行业技术门槛较高,行业新进入者需要经过较长时间的技术积累才能进入该领域。公司面向世界先进技术前沿,以国际先进的研发理念为依托,专注于高端微观加工设备的自主研发和创新。公司具有一支技术精湛、勇于创新、专业互补的国际化人才研发队伍,形成了良好的企业创新文化,为公司持续创新和研发提供后备力量。公司始终保持大额的研发投入和较高的研发投入占比,最近三年累计研发投入达到 10.37 亿元,占营业收入的比重平均为 32%。公司积累了深厚的技术储备和丰富的研发经验,这一优势保证了公司产品和服务的不断进步。公司拥有多项自主知识产权和核心技术,截至 2019 年 2 月 28日,公司已申请 1,201 项专利,已获授权专利 951 项,其中发明专利 800 项。公司先后承担了五个国家科技发展重大专项研发项目,是执行国家科技发展重大专项的标杆单位。公司已顺利完成四个等离子体刻蚀机的开发和产业化项目。目前正在执行的第五个研发项目已提前两年达到预定技术指标。在刻蚀设备方面,公司成功开发了低电容耦合线圈技术、等离子体约束技术、双反应台高产出率技术等关键技术。在 MOCVD 设备方面,公司新开发的 Prismo A7 设备拥有双区可调控工艺气体喷淋头和带锁托盘驱动技术,以实现优良的波长和厚度均一性指标。(3)客户认证及服务优势经过多年的努力,公司凭借其在刻蚀设备及 MOCVD 设备领域的技术和服务优势,产品已成功进入了海内外半导体制造企业,形成了相对国内刻蚀设备企业较强的客户资源优势。半导体设备制造商的售后服务尤为关键,关系到设备能否在客户生产线上正常、稳定地运行。随着半导体制造环节向亚洲转移,相较于国际竞争对手,公司在地域上更接近主流客户,能提供更快捷、更经济的技术支持和客户维护。为保证公司的售后服务水平,公司成立了全球业务部统筹公司销售业务,组建了一支经验丰富的售后服务团队,保证 7×24 小时响应客户的需求,并在约定时间内到达现场排查故障、解决问题。公司专业、快捷的售后服务能力在业内树立了良好的品牌形象。2018 年,在美国领先的半导体产业咨询公司 VLSI Research 对全球半导体设备公司的“客户满意度”调查和评比中,综合评分为全球第三,在单项设备评比中,等离子体刻蚀设备名列第二,薄膜沉积设备名列第一;2019 年中微公司综合评分保持全球第三,并在芯片制造设备专业型供应商和专用芯片制造设备供应商评比中均名列第二,同时,全球晶圆制造设备商评级为五星级公司仅有五家,中微公司是其中之一。这体现了公司在客户认证及服务方面的优势。(4)全球化采购体系优势公司对于零部件供应商的选择十分慎重,对供应商的工艺经验、技术水平、商业信用进行严格考核,并对零部件进行严格测试。公司建立了全球化的采购体系,与全球超过 450 家供应商建立了稳定的合作关系,其中包括 90 家关键供应商。凭借公司自主技术创新的优势,公司在国内培育了众多的本土零部件供应企业。稳定的供应体系保障了公司的产品和服务水平的持续提升。大的新兴领域。公司将继续通过自主研发进一步提高公司产品的竞争力,为客户提供品质一流、性能创新的产品和优良快捷的服务,努力提高市场份额,为股东实现持续增长的投资回报,为员工提供更好的职业发展平台。公司将紧紧抓住半导体产业发展的机遇,不断提升技术水平和市场竞争力,引领国内半导体设备和技术的发展。中微公司将围绕自身核心竞争力,通过自主创新、有机生长,结合适当的兼并收购策略,不断推动企业健康发展,力争在未来十年内发展成为国际一流的半导体设备公司。

中微公司目前开发的产品以半导体前道生产的等离子体刻蚀设备、薄膜沉积等关键设备为主,并已逐步开发后道先进封装、MEMS、LED、Mini LED、MicroLED 等泛半导体设备产品。未来,结合良性的内生成长,公司在适当时机将通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖,并将继续探索核心技术在国计民生中创新性的应用。中微公司所处的半导体设备产业具有广阔的成长空间。公司正在研发的设备可应用于先进封装、MEMS、Mini LED 和 Micro LED 等处于快速增长、潜力巨

(一)研发投入不足导致技术被赶超或替代的风险公司所处的半导体设备行业属于技术密集型行业,半导体关键设备的研发涉及等离子体物理、射频及微波学、结构化学、微观分子动力学、光谱及能谱学、真空机械传输等多种科学技术及工程领域学科知识的综合应用,具有产品技术升级快、研发投入大、研发周期长、研发风险高等特点。如果公司未来研发资金投入不足,不能满足技术升级需要,可能导致公司技术被赶超或替代的风险,对当期及未来的经营业绩产生不利影响。(二)关键技术人员流失、顶尖技术人才不足的风险关键技术人员是公司生存和发展的关键,也是公司获得持续竞争优势的基础。公司已经通过全员持股方式,有效提高了关键技术人员和研发团队的忠诚度和凝聚力,但随着半导体设备行业对专业技术人才的需求与日俱增,人才竞争不断加剧,若公司不能提供更好的发展平台、更有竞争力的薪酬待遇及良好的研发条件,仍存在关键技术人员流失的风险。公司拥有 160 多位资深技术和管理专家,集聚并培养了一大批行业内顶尖的技术人才。但如果未能持续引进、激励顶尖技术人才,并加大人才培养,公司将面临顶尖技术人才不足的风险,进而可能导致在技术突破、产品创新方面有所落后。关键技术人员中的核心技术人员是公司保持不断研发创新的重要保障,公司通过员工持股安排等措施保证核心技术人员的稳定性,但公司仍存在核心技术人员流失的风险。公司虽不存在对单个或多个核心技术人员的技术依赖,但核心技术人员的流失将可能对公司研发项目的实施和进程等方面造成一定的影响。除核心技术人员外,尹志尧及其团队相关人员作为公司的创始人团队,对公司日常生产经营及技术研发具有重要作用,公司十分注重保障创始人团队的稳定性,创始人团队在可预期的未来发生变动的可能性较低,如公司创始人团队出现重大变动,将可能对公司的在研项目进程、客户关系维护、日常经营管理等方面造成一定的影响。(三)下游客户资本性支出波动较大及行业周期性特点带来的经营风险近年来,半导体行业整体景气度的提升,全球半导体设备市场呈现快速增长态势。随着半导体产业日趋成熟,特别是集成电路和微观器件产业不断地出现更多半导体产品,半导体终端应用越来越广,并逐渐渗透到国民经济的各个领域,下游客户晶圆厂的资本性支出的周期性和波动性会有所降低。但是随着全球经济的波动、行业景气度等因素影响,下游客户晶圆厂仍然存在资本性支出的波动及行业周期性,并造成半导体设备行业的波动,带来相应的经营风险。在行业景气度提升过程中,半导体产业往往加大资本性支出,快速提升对半导体设备的需求,但在行业景气度下降过程中,半导体产业则可能削减资本支出,从而对半导体设备的需求产生不利影响。公司的销售和盈利情况也会受到上述影响发生相应波动,造成相应的经营风险。

股票代码 涨停日历 涨停区间 涨停次数
688012
中微公司
2020-02-04 159.98-177.66 8
2020-01-22 167.75-200.9 7
2020-01-17 167.87-196.01 6
2020-01-16 147-171.01 5
2020-01-13 113.9-134 4
2020-01-08 105.8-117.97 3
2020-01-02 92.62-103.85 2
2019-12-25 79.21-89 1
X