2018年，在美国领先的半导体产业咨询公司VLSIResearch对全球半导体设备公司的“客户满意度”调查和评比中，综合评分为全球第三；在单项设备评比中，等离子体刻蚀设备名列第二，薄膜沉积设备名列第一；获得了中国国际工业博览会组委会颁发的“第十六届中国国际工业博览会金奖”，公司研发的超大反应腔MOCVD设备PrismoA7获得了“第二十届中国国际工业博览会银奖”等高级别奖项。