国产替代！国产芯片离子注入机突破，中芯国际可实现去美化了

　　众所周知，芯片是由晶圆制造出来，但过程非常的复杂，比如要对晶圆进行光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等等过程。

　　每一个过程都需要用到相关的设备，比如光刻机光刻机、刻蚀要刻蚀机，离子注入要离子注入机等等，而这些设备大多是欧美厂商生产的，被美国限制进口，所以这也是中国芯发展缓慢的原因之一。

　　目前这些芯片制造设备中，中国最强的是刻蚀机，中微半导体生产的刻蚀机处于国际领先水平，已经用于台积电5nm芯片的制造了。

　　而近日，传出了消息，那就是离子注入机也实现了突破，达到了国际水平，可以替代欧美产品，帮助中芯国际实现去美化。

　　中国电子科技集团旗下的电科装备自主研制出了高能离子注入机，成功实现百万电子伏特高能离子加速，填补了国内在高能离子注入机上的空白。

　　一直以来，离子注入机国产率非常低，能生产的也是用于较低芯片工艺的，比如40/55/65/90nm等工艺，而先进工艺的离子注入机，Applied Materials、Axcelis、SEN、AIBT 等国际品牌垄断。

　　尤其美国的Applied Materials（应用材料），在离子注入机方面，有着非常高的市场份额，此前中芯国际就大量采购了应用材料的离子注入机。

　　其实此前，中电科的大束流28nm离子注入机，已经在中芯国际12英寸生产线现场使用了，而这次高能离子注入机推出，能够用于中芯国际14nm，甚至未来的N+1、N+2等工艺的芯片制造了。

　　目前半导体设备国产替代正当时，尤其随着华为芯片禁令升级，中芯国际非常有意愿实现去美化，而离子注入机的面市，又给了中芯国际信心，也给了中国芯信心，你觉得呢？