国林科技：公司目前所研制的半导体清洗设备是采用湿法清洗技术
来源： 每日经济新闻
作者：佚名
摘要： 每经AI快有投资者在投资者互动平台提问：您好！请问公司的半导体清洗用臭氧机是用于湿法半导体清洗还是干法半导体清洗？亦或是干法湿法都会用上公司产品？国林科技(300786.SZ)8月2日在投资者互动平台
每经AI快有投资者在投资者互动平台提问：您好！请问公司的半导体清洗用臭氧机是用于湿法半导体清洗还是干法半导体清洗？亦或是干法湿法都会用上公司产品？
国林科技(300786.SZ)8月2日在投资者互动平台表示，根据清洗的介质不同，清洗技术可以分为湿法清洗和干法清洗两种，公司目前所研制的半导体清洗设备是采用湿法清洗技术。
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