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南大光电：公司目前研发的产品包含干式光刻胶和浸没式光刻胶

时间： 2022-01-08 16:02:45 来源：互联网作者：佚名

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摘要：南大光电(300346.SZ)1月7日在投资者互动平台表示，ArF光刻胶可以用于 90nm-14nm 技术节点的集成电路制造工艺。公司目前研发的产品包含干式光刻胶和浸没式光刻胶。

　　有投资者在投资者互动平台提问：您好，请问贵司的ARF光刻胶是干法还是浸湿法？是否可以用于 90nm-14nm 技术节点的集成电路制造工艺？

　　南大光电(300346.SZ)1月7日在投资者互动平台表示，ArF光刻胶可以用于 90nm-14nm 技术节点的集成电路制造工艺。公司目前研发的产品包含干式光刻胶和浸没式光刻胶。

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南大光电

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