挑战阿斯麦 佳能打造纳米压印半导体制造系统

　　据报道，佳能宣布启动FPA-1200NZ2c纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路模式转移，这是最重要的半导体制造工艺。除了现有的光刻系统之外，佳能还将使用纳米压印技术的半导体制造设备推向市场，通过覆盖从最先进的半导体设备到现有设备，扩大其半导体制造设备的生产线，以满足广大用户的需要。

　　与传统的光刻技术相比，纳米压印技术具有多重优势，首先纳米压印技术的制造成本较低，仅为光刻技术的60%，并且耗电量仅为光刻机的10%。其次，纳米压印技术的工艺精度可以达到令人难以置信的2纳米，这在各个领域都具有巨大的发展潜力。随着科技的不断进步和市场的需求变化，纳米压印技术在未来可能会发展成为芯片制造的主流技术或重要的补充技术。

　　公开资料显示，国内已有多家上市公司积极布局该技术，这些公司集中在消费电子行业，近期在互动易平台回复纳米压印相关业务的上市公司包括美迪凯、利和兴（301013）、水晶光电（002273）、汇创达（300909）、歌尔股份（002241）、苏大维格（300331）等。