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国林科技：臭氧被电子工业广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光…

时间： 2023-09-07 17:43:58 来源：互联网作者：佚名

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摘要：国林科技(300786)09月07日在投资者关系平台上答复了投资者关心的问题。投资者：请问公司有光刻胶概念吗？具体是什么？国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧被电子工业广泛用于形成CVD和ALD薄膜

　　国林科技(300786)09月07日在投资者关系平台上答复了投资者关心的问题。

　　投资者：请问公司有光刻胶概念吗？具体是什么？

光刻胶

　　国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧被电子工业广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。感谢您的关注。

关键词：

光刻胶

审核：yj115 编辑:yj127

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