有研硅获得发明专利授权：“一种用于消除半导体抛光片表面色斑的装置与方法”

　　消息，根据企查查数据显示有研硅（688432）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种用于消除半导体抛光片表面色斑的装置与方法”，专利申请号为CN202311498465.X，授权日为2024年2月13日。

　　专利摘要：本发明公开了一种用于消除半导体抛光片表面色斑的装置与方法，属于半导体材料加工领域。该装置具备：反应室、紫外光源组件、臭氧循环系统以及旋转机构；其中，反应室由上反射板、下反射板及反射腔室组成，上反射板和下反射板分别与反应腔室侧壁密封连接，在反射腔室侧壁的上部和下部分别通过气密阀经密封管路与臭氧循环系统连接；紫外光源组件包括设置在反应室内的紫外光源阵列以及控制照射光强度与时间的紫外光功率控制器；旋转机构包括花篮卡台、驱动电机、滚轴，所述滚轴设置在花篮卡台上，并与花篮内的抛光片的边缘摩擦接触；所述驱动电机驱动滚轴转动从而带动抛光片旋转。该方法通过紫外线阵列及臭氧循环去除抛光片表面的色斑。

　　今年以来有研硅新获得专利授权3个，较去年同期增加了200%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了4347.69万元，同比增17.39%。

　　数据来源：企查查