光刻机、抛光等设备迎来突破，国内半导体设备乘风而起

　　国内半导体设备市场，迎来了新的局面！

　　业内某大佬表示现在台积电也开始走28nm路线，评论区就问国内能完善28nm制程吗？下面有个网友回复“如果是依靠外部设备，现在的中芯已经追平业内14nm了，如果是单靠国内设备，还有难度！”中芯一条生产线曾爆爆出多数以上的设备都是靠进口，这不是不使用我们的设备，而是一代技术配一代设备，为了追求更先进的工艺，所以只能如此。

　　但现在大家也都知道，由于外部原因我们不得不自研，毕竟想要进口也是挺难的（成熟工艺制程的设备还好），或许就是在这种情况下吧，有媒体表示或许中国即将“砸出”一个不错的半导体设备市场，而中国的速度，已经体现出来了！

　　国内半导体设备乘风而起

　　在大环境下，或许是由于全球缺芯的问题，导致了各个厂各个国家都开始扩产，那么半导体设备市场也顺势暴涨起来，有数据显示半导体设备原始制造商营收会将在明年再创新高，将会达到953亿美元。

　　就说个大家比较熟知的例子，ASML的光刻机，在前几日其公司刚刚公布上个季度的财报，从中我们就能够看到了40.2亿欧元，并预估第三季度可能会在52~54亿欧元之间，而值得一提的就是该公司DUV光刻机最大的市场，就是国内！

　　当然，除了ASML的光刻机，还有很多。

　　如美虽然限制了不少出口，但除了那些限制之外，今年前五个月美出口在华的设备总额也高达21.96亿美元，应用材料甚至也在财报中表示中国的订单增长速度十分迅猛，泛林也表示来自中国大陆的营收占其公司总营收的31%，这样的市场这样的强劲需求，也是少有的。

　　国内市场如此强劲，那么国产半导体设备呢？

　　举个简单的例子，前几日富士康在青岛的封测厂迎来了国内首台封测光刻机，是国产的，据爆料称大概只65-90nm之间，虽然是不是很先进，但这个意义非凡，它是实现了“0”的突破，是实现了从无到有的跨越。

　　当然，不只是封测方面，前段时间央视也爆料中科院在光刻机方面实现了突破，首台高能同步辐射光源设备已经进入安装阶段，还有清华此前在光源方面获得突破，当核心技术逐渐实现攻克，剩下的也只是时间问题了！

　　而在本月初的某大会上，中电科公布了该公司在离子注入机、抛光设备等方面的突破，尤其是离子注入机实现了全系国产化，而抛光设备更是进入了不少行业巨头的生产线中。

　　其中至纯科技前不久也公布了该企业在湿法设备方面的突破，28nm国产设备已经进入生产线，国产14nm设备也将预计在明年交付，其主要客户就是中芯、华虹等企业，如此看来，这日子越来越有盼头了！

　　国内半导体设备，不管是在大环境之下还是在国内各种政策之下，都算是乘风而起，也实现了一定的突破！

　　此前不少网友调侃：或许当初的特不靠谱就是想通过限制出口来阻碍国内的发展，但是没想到的是，国内因此而变得强大起来，在一些比较薄弱的环节开始实现自我突破，这简直是“得不偿失”！